【真空镀膜二极溅射与磁控溅射对比】: 靶材利用率(TU):是指发生溅射的靶材质量占原靶材质量的比率。 公式表示:靶材利用率={原靶材质量(Kg)—溅射后靶材质量}/原靶材质量 注:①:磁控溅射靶材利用率稍低,电压要求低,电流会高,溅射率提高,增加生产效率,降低成本。 ②:靶材使用寿命结素之前必须及时更换新靶材,防止靶材周围物质发生溅射(金属箔片、连接片、阴极) 两种溅射技术的区别: ①:靶材利用率不同 ②:溅射腔室和阴极设计要求不同 ③:放电电流和放电电压不同 ④:溅射率不同:磁控溅射有更短的沉积时间,更高的沉积量和更短沉积周期。关于真空镀膜机,你知道多少?上海真空镀膜设备代理
【为什么要在真空中镀膜】: 1.镀的过程中不会受空气分子碰撞,有较大的动量到达待镀件表面 2.防止气体“污染”.如:镀金属膜时可以防止氧化 3.成膜过程不受气体影响,致密牢固 4.真空(负压)状态下,镀膜材料的熔点教常压下低,易于融化蒸发(对于蒸发类型的镀膜) 真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜,从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得明显技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为Zui具发展前途的重要技术之一,并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。这种新兴的真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用,如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、Jun事等领域。 河北真空镀膜设备厂家公司真空镀膜设备故障解决方法?
【溅射镀膜定义】:定义:所谓溅射,就是这充满腔室的工艺气体在高电压的作用下,形成气体等离子体(辉光放电),其中的阳离子在电场力作用下高速向靶材冲击,阳离子和靶材进行能量交换,使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出(其中逸出的还可能包含靶材离子)。这一整个的动力学过程,就叫做溅射。入射离子轰击靶面时,将其部分能量传输给表层晶格原子,引起靶材中原子的运动。有的原子获得能量后从晶格处移位,并克服了表面势垒直接发生溅射;有的不能脱离晶格的束缚,只能在原位做振动并波及周围原子,结果使靶的温度升高;而有的原子获得足够大的能量后产生一次反冲,将其临近的原子碰撞移位,反冲继续下去产生高次反冲,这一过程称为级联碰撞。级联碰撞的结果是部分原子达到表面,克服势垒逸出,这就形成了级联溅射,这就是溅射机理。当级联碰撞范围内反冲原子密度不高时,动态反冲原子彼此间的碰撞可以忽略,这就是线性级联碰撞。
【真空镀膜机概述】: 真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子抢加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 真空镀膜机构造的五大系统:排气系统、控制系统、蒸镀系统、监控系统、辅助系统。 真空镀膜三要素:真空度、抽气时间、温度;任何镀膜工艺都需要为这三个要素设定目标值;因此,只有当三个条件同时满足时,自动化程序才会自动运行。 真空镀膜机需要做定期定期保养,目的在于:让镀膜机能长时间地正常运转;降低故障时间,避免影响产能,减少损失;提高机器精度,稳定品质;加快抽气速度,提升机器利用率等。广东真空镀膜设备厂家。
【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜色差异】:膜色差异有两种(不含色斑),一种时整罩上、中、下膜色不一致,即分光测试曲线有差异;二是单片膜色不一致。改善对策:1.调整修正版,尽量考虑高低折射率膜料的平衡兼容,如果有两个蒸发源,可能的条件下,独li使用各自的修正板,避免干扰。2.条件许可,采用行星夹具。3.伞片整形。4.加强伞片管理。5.改善膜料状况6.能够自动预熔的膜料,尽量自动预熔注:修正板对物理膜厚的修正有效,但对折射率的修正是力不从心的,所以完全靠修正板解决分光均匀性,是很困难的。如果一个修正板对应二把电子抢(蒸发源)、以及多种膜料,就会有较大困难。真空镀膜设备怎么保养?江苏卷绕真空镀膜设备
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【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜强度】:膜强度时镜片镀膜的一项重要指标,也是镀膜工序Zui常见的不良项。膜强度的不良(膜弱)主要表现为:1.擦拭专yong胶带拉撕,产生成片脱落2.擦拭专yong胶带拉撕,产生点状脱落3.水煮15分钟后用专yong胶带拉撕产生点状或片状脱落4.用专yong橡皮头、1Kg力摩擦40次,有道子产生5.膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子改善思路:基片与膜层的结合是首要考虑的,其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力。上海真空镀膜设备代理